ماسک EUV از چه موادی ساخته شده است؟

ماسک EUV بازتابنده است، اما ماسک مشترک ما انتقال دهنده است، چرا این اتفاق می افتد؟

چرا ماسک EUV بازتابنده است؟

طول موج نور EUV 13.5 نانومتر است و این طول موج بسیار کوتاه در هنگام عبور از هر ماده ای به شدت جذب می شود و در نتیجه ماده شفاف مناسبی برای انتقال موثر نور EUV وجود ندارد و ماسک های انتقال سنتی در لیتوگرافی EUV غیرممکن می شود. ساختار ماسک EUV

همانطور که در شکل بالا نشان داده شده است، ماسک EUV از ساختار فیلم چند لایه استفاده می کند که از اصل بازتاب براگ برای بازتاب نور EUV استفاده می کند. می تواند تا حدود 70 درصد بازتابش را به دست آورد که دقت و کارایی لیتوگرافی را بهبود می بخشد.
پوشش ضد انعکاس (ARC) (Anti-Reflective Coating): انعکاس روی سطح مشبک را کاهش می دهد و راندمان جذب نور را افزایش می دهد. جذب کننده: لایه کامبیوم واقعی الگوی لیتوگرافی که نور EUV بازتاب نشده را جذب می کند. به طور کلی، مواد لایه جاذب Ta, TaN, TaBN و غیره هستند. درپوش Ru: از ساختار غشایی چند لایه در برابر اکسیداسیون و آسیب محافظت می کند.

آینه چندلایه Mo/Si (آینه چندلایه مولیبدن/سیلیکون): 40 تا 50 لایه متناوب سیلیکون و مولیبدن در بالای بستر LTEM به عنوان یک لایه بازتابنده براگ برای حداکثر بازتاب EUV در طول موج 13.5 نانومتر قرار می‌گیرند.
مواد با انبساط حرارتی کم (LTEM) (مواد انبساط حرارتی کم): مواد بستر ماسک با پایداری حرارتی بالا و حداقل تغییر ابعاد در مواجهه با تغییرات شدید دما.

پوشش پشتی رسانا (پوشش پشت رسانا): معمولاً از نیترید کروم برای کاهش تجمع استاتیک و تسهیل نگهداری الکترواستاتیک تشکیل شده است.