عوامل مؤثر بر استرس فیلم در PECVD

عواملی که بر استرس فیلم های PECVD تأثیر می گذارد چیست؟ مزایا و معایب هرکدام چیست؟

گرفتن SIH {0}} NH3/N2 برای تشکیل فیلم های نازک Sinx ، و SIH {3}} NH {4} NO2 برای تولید فیلم های نازک SION ، من در اینجا چند نکته را خلاصه کرده ام ، البته محدود به آن نیست این عوامل: دما ، قدرت/فشار ، ترکیب گاز ، فرکانس و محتوای گاز رقیق شده HE.

دما (فیلم Sinx)

هرچه درجه حرارت بیشتر باشد ، استرس کششی بیشتر می شود.

0010-37264 Cooldown اتاق Cooldown Multi Slot Ass'y

قدرت/فشار (فیلم SINX)

همانطور که در شکل بالا نشان داده شده است ، در فشارهای پایین تر (400 MTORR) ، تنش ها در تمام شرایط قدرت نسبت به استرس فشاری مغرضانه است. با افزایش فشار ، استرس فشاری به تدریج در استرس کششی تغییر می کند. در فشارهای بالاتر ({1}} mtorr) ، تنش ها به تنش های کششی تمایل دارند. فشارهای مثبت و منفی در نمودار به ترتیب فشارهای کششی و کششی را نشان می دهد. انواع و نسبت گازها (فیلم های SION)

همانطور که در شکل بالا نشان داده شده است ، با افزایش نسبت N2O/NH3 ، فیلم به تدریج از استرس کششی به استرس فشاری تغییر می کند. مدولاسیون فرکانس پایین (فیلم های Sinx)

0040-22451 pedestal 150mm cooldown ، تماس 3 نقطه ای

همانطور که در شکل بالا نشان داده شده است ، استرس فیلم به تدریج از استرس کششی به استرس فشاری تغییر می کند زیرا نسبت زمان صرف شده برای خروجی منبع تغذیه در فرکانس های پایین افزایش می یابد. محتوای گاز رقیق شده او

همانطور که در شکل بالا نشان داده شده است ، هنگامی که نسبت گاز رقیق شده به تدریج افزایش می یابد ، استرس فیلم به تدریج از استرس کششی به استرس فشاری تغییر می کند. بنابراین ، تنظیم فرآیند فیلم اغلب باید به یک مقدار بهینه تنظیم شود و هر پارامترهای فرآیند که خیلی بزرگ یا خیلی کوچک باشد ، باعث کیفیت فیلم ناقص می شود.

 

پایان